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FIE/FIV 2L高频高速柔性铜箔基板
HIS 低粗糙极薄载体铜箔
本系列产品采用先进的真空磁控溅镀技术,针对细线路软板及MSAP制程所开发的超薄2LFCCL。无铜箔牙根,线细路不易有蚀刻残留问题。在铜层9μm以下的极薄铜箔比传统铜箔具有更高的性价比。
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